就在这时，仓库门口又传来一阵动静，一位身材精干、目光锐利、戴着深度眼镜的中年男子提着行李箱走了进来，他正是长春光机所派来的光学专家吴祖垲。“不好意思，各位，路上转车耽误了点时间。”他声音洪亮，带着东北口音。
赵明理赶紧介绍：“祖垲，你可算到了！就等你这双火眼金睛了！”
陈青禾热情迎上：“吴工，一路辛苦，您来得正是时候！”
吴祖垲放下行李，甚至没顾上寒暄，目光就直接锁定了那个清洁区域和旁边一块空着的、预留用于安装光刻机的区域。
他走过去，用手摸了摸地面平整度，又看了看预留给设备的电源和气路接口，眉头微蹙：“基础条件比我想象的还要差一些。地面平整度需要重新找平，微米级的对准，差之毫厘谬以千里。电源必须加装超级稳压器，电网波动对曝光光源稳定性是致命打击。还有，这预留的空间不够，光刻机本身及其配套的掩模对准系统、曝光控制系统，需要更大的操作和维护空间。”
他一边说，一边从随身携带的帆布包里掏出卷尺和水平仪，当场就开始测量起来，对旁边一位负责场地布置的工作人员指点着需要改进的具体位置和尺寸要求。
那位工作人员先是有些茫然，在吴祖垲清晰的指令下，很快反应过来，拿出本子认真记录。
看着专家们几乎不需要过渡，就自发地、迅速地投入工作，并且已经开始现场指导和提出具体改进方案，陈青禾心中暗喜，与林爽、赵明理交换了一个欣慰的眼神。
参观和初步的现场办公结束后，众人在仓库一角用隔音板临时隔出的会议室里落座。陈青禾将那份精心准备、带着油墨香的《第二代电子计算机（晶体管-集成电路方向）研制规划（草案）》分发给众人。
当新来的四位专家翻开规划草案，看到上面清晰列出的从高纯度单晶硅/锗制备，到平面光刻、氧化扩散、真空镀膜、PN结隔离等核心工艺路径，再到最终指向小规模集成电路的系统架构和明确的性能目标时，会议室里出现了短暂的、只有纸张翻动的寂静。
王守武首先深吸一口气，指着材料与器件物理部分，眼中闪烁着兴奋的光芒：“高纯度区熔单晶硅……选择氧化隔离……这些工艺思路，即使在国外的公开文献里，也属于刚刚冒头的前沿概念，你们竟然已经梳理出如此具体、环环相扣的技术路径了。青禾同志，你们前期的调研和论证工作，做得不是一般的扎实啊！”他看向陈青禾，目光中带着毫不掩饰
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